Китай разработал прототип фотолитографического станка для производства передовых чипов, пишет Reuters. Первые рабочие микросхемы власти КНР планируют начать выпускать в 2028 году, но собеседники агентства называют более вероятным сроком 2030 год.
Пока технологию EUV-литографии освоила только нидерландская ASML. Её установки стоимостью около $250 млн используют все производители современных чипов, в том числе TSMC, Intel и Samsung. США и Нидерланды строго контролируют экспорт такого оборудования, чтобы «перекрыть Китаю доступ к передовым полупроводниковым технологиям».
